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日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡介

  • 產(chǎn)品型號:
  • 更新時(shí)間:2024-10-10

簡要描述:日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡介:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。

產(chǎn)品詳情

日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡介

低成本效益高:

RIE等離子蝕刻機(jī)Etchlab200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接置片。

升級擴(kuò)展性:

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),等離子蝕刻機(jī)Etchlab200可升級為更大的真空泵組,預(yù)真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件:

該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡介代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測。

Etchlab200等離子蝕刻機(jī)可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導(dǎo)體,介質(zhì)和金屬。

Etchlab200通過的SENTECH控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。

日本傾斜角刻可能指的是與傾斜角度測量或刻劃相關(guān)的日本產(chǎn)品或技術(shù)。然而,由于“傾斜角刻"并非一個廣泛認(rèn)知的專有名詞或產(chǎn)品名稱,我將從幾個方面來介紹可能與之相關(guān)的日本傾斜角度測量儀器或技術(shù)。 一、日本傾斜角度測量儀器日本在精密儀器制造方面享有盛譽(yù),其生產(chǎn)的傾斜角度測量儀器具有高精度、高穩(wěn)定性和多功能性等特點(diǎn)。這些儀器廣泛應(yīng)用于工業(yè)自動化、機(jī)器人技術(shù)、航空航天、建筑測量等領(lǐng)域。以下是一些可能相關(guān)的日本傾斜角度測量儀器:1. 坂本電機(jī)(SEM)傾斜角測定儀:   - 特點(diǎn):精密數(shù)碼傾斜角測定儀,具備傳感器與顯示器分離設(shè)計(jì),支持1軸、2軸設(shè)定變更,具有HOLD、オフセット(偏移)功能,能在振動環(huán)境下進(jìn)行角度測量,并具備外部輸出功能。   - 用途:用于各種精密裝置的角度調(diào)整、勾配可動裝置和機(jī)械臂的角度檢測與控制、汽車調(diào)諧與角度調(diào)整等。   - 技術(shù)參數(shù):測量范圍±45.0度(可選±60.0度),精度±0.1度(±10.0度范圍內(nèi)),±0.15度(+10.0+45.0度、-10.0-45.0度范圍內(nèi)),分解能0.01度,響應(yīng)時(shí)間約200ms以下。2. 大菱(OBISHI)傾斜水平儀:   - 產(chǎn)品系列:大菱公司生產(chǎn)多種型號的傾斜水平儀,如AJ101、ST2D-L1、AG101等,這些儀器具有高精度和穩(wěn)定性,適用于不同的測量需求。   - 特點(diǎn):部分型號支持?jǐn)?shù)字顯示,具有雙軸測量功能,能夠準(zhǔn)確測量水平和垂直方向的角度變化。3. Macome碼控美傾斜角檢測儀:   - 特點(diǎn):高精度傾斜角檢測儀,如CM-936-V/H型號,具備快速響應(yīng)和穩(wěn)定測量的能力。   - 用途:適用于需要精確測量傾斜角度的場合,如工業(yè)自動化生產(chǎn)線、機(jī)器人定位等。 二、日本傾斜角度測量技術(shù)除了上述具體的測量







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