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  • 英國(guó)光柵刻蝕
    英國(guó)光柵刻蝕

    簡(jiǎn)要描述:英國(guó)光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡(jiǎn)介
    日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡(jiǎn)介

    日本傾斜角RIE等離子蝕刻機(jī)的簡(jiǎn)介:日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab200的特征是簡(jiǎn)單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • 進(jìn)口深硅刻蝕
    進(jìn)口深硅刻蝕

    簡(jiǎn)要描述:進(jìn)口深硅刻蝕:三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • RIE等離子刻蝕機(jī)2
    RIE等離子刻蝕機(jī)2

    簡(jiǎn)要描述:RIE等離子刻蝕機(jī)2我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強(qiáng)大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • RIE等離子刻蝕機(jī)
    RIE等離子刻蝕機(jī)

    簡(jiǎn)要描述:RIE等離子刻蝕機(jī)該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

    更新時(shí)間:2024-10-10
  • ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)
    ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)

    簡(jiǎn)要描述:ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

    更新時(shí)間:2024-10-10
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